濕電子化學(xué)品 再生光阻洗凈液 - 水分的測(cè)定

T/FJAS 002-2024 濕電子化學(xué)品 再生光阻洗凈液

范圍
本文件規(guī)定了再生光阻洗凈液的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則及標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存。
本文件適用于以濕電子化學(xué)品行業(yè)含光阻洗凈液回收液為原料，經(jīng)過(guò)提純的光阻洗凈液再生產(chǎn)品(以下簡(jiǎn)稱產(chǎn)品)，主要用于顯示面板制造行業(yè)等。

術(shù)語(yǔ)和定義
下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件。
濕電子化學(xué)品  wet chemicals
濕電子化學(xué)品又稱超凈高純電子化學(xué)品，是微電子、光電子濕法工藝(主要包括濕法刻蝕、清洗、顯影、剝離等環(huán)節(jié))中使用的各種液體化工材料。
光阻洗凈液  Light blocking cleaning solution
光阻去除液、清洗劑，主要成分丙二醇甲醚(PM)和丙二醇甲醚醋酸酯(PMA)。
回收液  Iiquid recycIing
主要含主要丙二醇甲醚和丙二醇甲醚醋酸酯，以及少量其它有機(jī)溶劑、光刻膠、水、金屬離子等。

技術(shù)要求
產(chǎn)品的技術(shù)指標(biāo)應(yīng)符合表1的要求。


試驗(yàn)方法
水分的測(cè)定
按 GB/T 6283 的規(guī)定進(jìn)行測(cè)定。
GB/T 6283-2008 化工產(chǎn)品中水分含量的測(cè)定 卡爾·費(fèi)休法(通用方法)


京都電子KEM 卡爾費(fèi)休水分測(cè)定儀 MKV-710S